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第511章 启动

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在全彩设备的四条新线,全面上马的时候,光电科研的另一个项目,也悄悄启动了。
        甘肃省平凉县,某研究所。
        “所长,光电科研的小成,给我们打了一个电话,询问1.5微米光刻机的事情。”
        “咦?他们的lcd产线,要用到这么高精度的光刻机了吗?”
        作为精密光机的股东之一,研究所对光电及其下属的全彩,动向还是十分了解的。
        国内的半导体设备行业,在这段时间全都吃了个饱。但也有个别细分行业是例外。光刻机这个细分行业就是其中之一。
        lcd用大尺寸低精度光刻机,都被精密光机给截留了。研究所在92年,只能靠一些led行业升级订单维持,与去年的热闹景象,完全不能比较了。
        看着兄弟单位红红火火的局面,要说不羡慕是不可能的。接到了消息,大家本能的反应就是,我们的机会来了啊!
        精密光机毕竟底蕴不足,从10微米,步进到5微米,已经是他们在短短一年时间里能取得的最大成就。
        “不是的。他们想上一条小规模的晶圆厂,主要目的是生产lcd驱动芯片。这条产线的技术指标是2微米,3寸晶圆。”
        “噢。这样啊。没有问题啊。”
        1.5微米的光刻机,研究所85年就开发出来了,技术非常成熟。
        虽然有些失望,但有总比没有好。这两年,除了led和lcd产业产生的额外订单以外,真正来自半导体本身的订单,是少之又少。它甚至少到,都快被大家遗忘的程度了。
        “他还在问我们的0.8微米光刻机是否可以在93年面世。”
        “他们这是准备做什么?为什么要问0.8微米光刻机的事情?”
        研究所也有后续精度光刻机的研发计划,但受困于资金,进展始终不快。从85年算起,到现在7年了,升级换代产品一直没有出来。
        不过随着时间的推移,技术也在慢慢进步,0.8微米的光刻机,已经看见曙光。大家努努力,还是有可能在93年面世。原历史,94年面世
        “他说,光电有个技术进步路线图,他不仅仅是要上0.8微米,而且希望在94年,最迟95年能看到0.5微米光刻机。”
        “这根本不可能!这不是开玩笑吗?他以为光刻机是什么?”
        “我跟他说了,但他一直坚持。就是这个时间做不到,也要我们给出一个预计时间。”
        秘书也不是什么不懂。不合理的东西,早顶回去了。
        “这怎么给?没有钱,怎么做研发?下次他再点打电话,告诉他,他要是投钱给我们,我们就帮他做研发。”
        “小成提出了一个建议,就是我们两家合作,一起开发高精度光刻机。”
        “怎么个合作法?”
        “他的建议是,把我们的光刻机开发团队,并入精密光机。这个团队可以折合成公司股份。”
        这支光刻机开发团队,是国内最强的一支技术团队,以它为骨干,于2002年,在上海成立了smee。
        如果这个团队可以加盟精密光机,后续的一系列计划都有了实施的基础。
        “就这些?”
        所长并没有直接回答,而是在思考。研究所与精密光机一直有合作,已经有不少同事,被派去冰城工作了。
        精密光机在过去的一年多时间里的发展,大家有目共睹。由于lcd产业链的滋养,这些派驻人员的工资,福利,比留在甘肃苦熬的留守人员强多了。
        这种对比,也挺伤士气的。
        派出去的都是二流人员。但这些人员在异地生根发言,一年来成果不断,在lcd光刻机领域,大放光芒。而留守的核心技术人员,由于资金不足,只能日复一日的浪费人生。
        “小成经理还说了,如果我们同意这个合作开发光刻机的计划,他们会把一部分lcd光刻机订单转移给我们。”
        成都,光电所
        众人在会议室,研究光电传过来的需求。
        “我们的1.25微米光刻机,可以实用了吗?”
        光电所的ioe1010g直接分步重复投影光刻机,工作分辨率

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